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赋予塑料减反射特性的等离子体刻蚀技术

简介

本技术通过低压等离子体处理透明塑料薄膜表面,产生减反射纳米结构,从而达到对入射光具有优异的减反射性能。
技术优势
采用低压等离子体刻蚀处理如PMM、Zeonex、Zeonor等透明塑料薄膜表面,形成纳米结构表面,从而获得优异的减反射特性;此类减反射塑料对于斜入射光具有优异的减反射性能;表面易清洁;寿命长;此种技术是一种快速、经济的技术;已获相关专利。

应用范围

现代光学

技术指标

图1. Ultrson和PMMA塑料衬上沉积具有纳米结构AR-plas的SEM图
图2. 沉积有和未沉积有减反射特性的纳米结构的AR-plas薄膜的PMMA材料的光透射性比较
图3. Ultroson衬底样品, 右半部分有减反射特性的纳米结构AR-Plas

技术特色

采用低压等离子体刻蚀处理如PMM、Zeonex、Zeonor等透明塑料薄膜表面,形成纳米结构表面,从而获得优异的减反射特性;此类减反射塑料对于斜入射光具有优异的减反射性能;表面易清洁;寿命长;此种技术是一种快速、经济的技术;已获相关专利。

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