简介

采用等离子体-离子辅助沉积（Plasma-IAD）工艺在塑料衬底上制备的高密度和长寿命耐刮减反射膜（AR-hard），在光电材料和材料封装等领域具有广阔的应用前景。

应用范围

透明塑料如聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚碳酸酯 （Polycarbonated）、CR39、环烯烃类共聚物（Topas）和工程塑料（Zeonex）被广泛应用于光学和光电零部件中。在这些软零部件上进行镀膜可以增加其机械耐久性。此外，减反射膜层在很多光学应用中也是必要的。采用等离子体-离子辅助沉积（Plasma-IAD）工艺在塑料衬底上制备的高密度和长寿命耐刮减反射膜（AR-hard），在光电材料和材料封装等领域具有广阔的应用前景。

技术指标

在环烯烃类共聚物衬底上进行钢丝绒耐刮测试，实验结果表明，该种塑料在沉积ARhard膜后，其耐刮性能明显增强。
图1

光学透过率测试结果表明，在400-700纳米波长范围内，等离子辅助沉积的AR-hard膜明显提高了该种塑料聚合物的透明度。
图2

技术特色

1.透明塑料上制备耐刮减反射膜(AR-hard)；
2.采用等离子体-离子辅助沉积（Plasma-IAD）工艺制备高密度和长寿命薄膜；
3.耐刮减反射膜厚度在0.8-4微米范围内可调；
4.产品性能通过ISO9211-02-03胶带测试、快拉测试和ISO9022 温度稳定性测试。