简介

本技术通过低压等离子体处理透明塑料薄膜表面，产生减反射纳米结构，从而达到对入射光具有优异的减反射性能。
技术优势
采用低压等离子体刻蚀处理如PMM、Zeonex、Zeonor等透明塑料薄膜表面，形成纳米结构表面，从而获得优异的减反射特性；此类减反射塑料对于斜入射光具有优异的减反射性能；表面易清洁；寿命长；此种技术是一种快速、经济的技术；已获相关专利。

应用范围

现代光学

技术指标

图1. Ultrson和PMMA塑料衬上沉积具有纳米结构AR-plas的SEM图
图2. 沉积有和未沉积有减反射特性的纳米结构的AR-plas薄膜的PMMA材料的光透射性比较
图3. Ultroson衬底样品， 右半部分有减反射特性的纳米结构AR-Plas

技术特色

采用低压等离子体刻蚀处理如PMM、Zeonex、Zeonor等透明塑料薄膜表面，形成纳米结构表面，从而获得优异的减反射特性；此类减反射塑料对于斜入射光具有优异的减反射性能；表面易清洁；寿命长；此种技术是一种快速、经济的技术；已获相关专利。