简介

采用等离子体-离子辅助沉积(Plasma-IAD)工艺在塑料衬底上制备的高密度和长寿命耐刮减反射膜(AR-hard)；通过等离子体刻蚀处理聚合物表面可以获得微纳米结构(ARplas)，实现优异的减反射特性，在光电材料和材料封装等领域具有重要的应用需求。

应用范围

透明塑料如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(Polycarbonated)、CR39、环烯烃类共聚物(Topas)和工程塑料(Zeonex)被广泛应用于光学和光电零部件中。在这些软零部件上进行镀膜如等离子体-离子辅助沉积(Plasma-IAD)工艺或者表面处理如等离子体-离子刻蚀处理获得优异的机械耐刮特性以及减反射特性。经过镀膜或者刻蚀处理后的塑料衬底在光电材料和材料封装等领域具有重要的应用需求。

技术指标

1. 镀有AR-hard减反膜适的用 PM 对M 象A材料；
2. 具有防紫外线的AR-hard薄膜聚碳酸脂材料；
3. 具有AR-plas纳米结构和30nm厚的SiOx保护层的ZeonexE48R材料；
4. 具有AR-plas纳米结构的PMMA材料。

技术特色

技术优势
耐刮减反射膜(AR-hard)
1. 有效的无色减反射特性；
2. 在一定光谱区增加光透射；
3. 高耐刮性、厚度可调；
4. 环境稳定性：
5. 在PMMA上在-40°C 至+60°C稳定；
6. 在PC上-40°C至+85°C稳定；
7. 其他功能：易清洁、防紫外线；
8. 可以沉积在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(Polycarbonated)、Zeonex、CR39或者其他聚合物材料；
9. 获得相关专利。
减反射纳米结构AR-plas
1. 优异的宽波段减反射特性在大的光入射角范围内都可以获得。此工艺对于曲面或者微或微结构光学镜片（例如菲尼尔透镜）来说特别实用；
2. 已经证实在PMMA、Zeonex、Ultrason、PET和CR39材料中通过此技术处理可以在可见区范围内获得高透过率；
3. 已获得相关专利。